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Si深刻蝕系統NLD-5700Si

良好的重復性和穩定的過程; 對光阻的高選擇性(200-500),對CD偏移的良好控制; 蝕刻后光滑的側壁; 可以蝕刻超精細(<100nm)和高縱橫比器件; 可以對玻璃基板(石英,Pyrex)進行深度蝕刻。


Si深刻蝕系統NLD-5700Si

      描述:


      該系統能夠使用ULVAC原始工藝進行深硅蝕刻,而無須使用博世工藝和Cyro Genics工藝。該系統也可用于石英蝕刻。


      特性:


      良好的重復性和穩定的過程。


      對光阻的高選擇性(200-500),對CD偏移的良好控制。


      蝕刻后光滑的側壁。


      可以蝕刻超精細(<100nm)和高縱橫比器件。


      可以對玻璃基板(石英,Pyrex)進行深度蝕刻。


      應用:


      電力行業


      眼鏡行業


      金屬,機械行業


      研究與開發


      Bio















 


Si深刻蝕系統NLD-5700Si

      描述:


      該系統能夠使用ULVAC原始工藝進行深硅蝕刻,而無須使用博世工藝和Cyro Genics工藝。該系統也可用于石英蝕刻。


      特性:


      良好的重復性和穩定的過程。


      對光阻的高選擇性(200-500),對CD偏移的良好控制。


      蝕刻后光滑的側壁。


      可以蝕刻超精細(<100nm)和高縱橫比器件。


      可以對玻璃基板(石英,Pyrex)進行深度蝕刻。


      應用:


      電力行業


      眼鏡行業


      金屬,機械行業


      研究與開發


      Bio















 

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