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用于研發的高密度等離子刻蝕系統NE-550EX

配備低壓、低電子溫度和高密度等離子源; 支持從離子蝕刻到自由基蝕刻的各種過程控制; 等離子體的密度和均勻性可以通過優化磁場來控制; 配置簡單,便于維護。


用于研發的高密度等離子刻蝕系統NE-550EX

      描述:


      NE550EX是一種多功能高密度等離子刻蝕系統,特別適用于大學和政府機構作為測試設備。


      特性:


      配備低壓、低電子溫度和高密度等離子源。


      支持從離子蝕刻到自由基蝕刻的各種過程控制。


      等離子體的密度和均勻性可以通過優化磁場來控制。


      配置簡單,便于維護。


      應用:


      超高頻器件,光學器件(LED,LD)


      新一代非易失性存儲器


      生物芯片和微流體裝置


      光子晶體


      傳感器,MEMS(微機電系統)


      產品規格:


項目

規格

系統配置

具有負載鎖功能的研發/原型系統

基材尺寸

高達150毫米

操作壓力(Pa)

0.07至6.7

基底或基底到基底表面的均勻性

最大±3%。

基材溫度控制

靜電吸盤













 



 


用于研發的高密度等離子刻蝕系統NE-550EX

      描述:


      NE550EX是一種多功能高密度等離子刻蝕系統,特別適用于大學和政府機構作為測試設備。


      特性:


      配備低壓、低電子溫度和高密度等離子源。


      支持從離子蝕刻到自由基蝕刻的各種過程控制。


      等離子體的密度和均勻性可以通過優化磁場來控制。


      配置簡單,便于維護。


      應用:


      超高頻器件,光學器件(LED,LD)


      新一代非易失性存儲器


      生物芯片和微流體裝置


      光子晶體


      傳感器,MEMS(微機電系統)


      產品規格:


項目

規格

系統配置

具有負載鎖功能的研發/原型系統

基材尺寸

高達150毫米

操作壓力(Pa)

0.07至6.7

基底或基底到基底表面的均勻性

最大±3%。

基材溫度控制

靜電吸盤













 



 

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